半導體用PRA高溫真空晶圓退火爐

產品介紹

真空晶圓退火爐是在真空環境下，對半導體晶圓進行高溫熱處理的設備，主要用于消除應力、優化材料結構、增加電學性能。華測儀器經過多年研發，推出了采用高準度、高反射率拋物面搭配高性能加熱源的解決方案，在升降溫過程中仍能保持穩定均勻的溫度場，可實現寬范圍均熱區、高速加熱與高速降溫。樣品由石英管保護，無氣氛污染，更適合半導體工藝使用

設備的反射鏡采用高準度曲率設計，通過五軸加工系統制造，以維持更高的反射效率。反射鏡主要分為圓形和拋物線型兩種，可滿足不同材料在不同溫度控制條件下的測試需求

產品參數

產品型號：Huace-800G/Huace-1200G/Huace-1450G

產品尺寸：6寸晶圓或150 x 150mm產品

溫度范圍：RT ~ 800/1200/1450°C

升溫速度：＜100℃/s可編程（此溫度不含載盤的升溫速度）

＜25℃/s（SiC載盤）

溫度均勻度：±5 °C （≤ 500 ℃） 

±1 % （> 500 ℃）

溫度控制重復性：±1 °C

溫控方式：PID 溫控

公司簡介

Beijing Hua Ce Testing Instrument Co., Ltd. is a national high-tech enterprise, abbreviated as Hua Ce Instrument.    It is a company engaged in research and development, production and manufacturing.    The company has a functional materials electrical laboratory and an electrical insulation materials electrical laboratory.

The products involve material testing instruments, signal amplification and conditioning, data acquisition and control, comprehensive performance evaluation of sensors, etc.