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1500℃高溫原位光學加熱臺
日期：2026-07-29 14:21
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摘要：
1500℃高溫原位光學加熱臺
Huace-1500-XY 高溫熱臺是為高溫環境下材料原位光學觀測與性能測試設計的實驗設備，可實現室溫至 1500℃穩定可控加熱。采用耐高溫陶瓷加熱體與高溫阻絲纏繞加熱結構，配合準確PID 控溫算法及高精度 S 型熱電偶傳感器，確保溫度準確調控與長期穩定。設備采用透射光路設計，具備上下雙光學窗口，可實現可見光、紅外等波段光線透射樣品，適用于樣品內部結構觀測或透射光譜響應實驗。外形尺寸145mm×78mm×38mm，凈重 1.2kg，可輕松集成于多數顯微鏡載物臺或空間受限光學系統，廣泛應用于材料科學、冶金、陶瓷...
1500℃高溫原位光學加熱臺
Huace-1500-XY 高溫熱臺是為高溫環境下材料原位光學觀測與性能測試設計的實驗設備，可實現室溫至 1500℃穩定可控加熱。采用耐高溫陶瓷加熱體與高溫阻絲纏繞加熱結構，配合準確PID 控溫算法及高精度 S 型熱電偶傳感器，確保溫度準確調控與長期穩定。設備采用透射光路設計，具備上下雙光學窗口，可實現可見光、紅外等波段光線透射樣品，適用于樣品內部結構觀測或透射光譜響應實驗。外形尺寸145mm×78mm×38mm，凈重 1.2kg，可輕松集成于多數顯微鏡載物臺或空間受限光學系統，廣泛應用于材料科學、冶金、陶瓷、地質、半導體等領域，為高溫下樣品相變、燒結、熔化、透射光譜分析提供可靠平臺。應用領域
材料科學：高溫相變、熱膨脹系數測定、晶體生長原位觀察
冶金學：金屬及合金熔化、凝固、再結晶過程實時顯微觀測
陶瓷與玻璃工業：釉料熔融、玻璃軟化點、陶瓷燒結行為研究
地質學與礦物學：礦物包裹體測溫、巖石熔化實驗、相平衡研究
半導體與電子材料：高溫退火、氧化過程、金屬化層穩定性測試
能源材料：固體氧化物燃料電池電極材料、高溫催化劑形貌演變
高校教學與科研：熱學、材料物理、地質實驗教學及前沿課題研究
產品優勢
極限高溫性能
溫度可達1500℃，適用于高溫陶瓷、難熔金屬、耐火材料等高熔點材料研究；升溫速率 1~150℃/min 可調，滿足快速升溫與精細熱分析需求。
溫控精度
溫度穩定性±0.1℃，分辨率 0.1℃，支持多段程序控溫，可預設升溫、保溫、降溫流程，自動完成復雜實驗周期。
透射光路設計，光學兼容性強
上視窗Φ3mm、下視窗 Φ10mm、透光孔 Φ5mm，適用于透明或半透明樣品高溫透射顯微觀察與光譜分析；可直接觀測樣品內部氣泡、晶界、相界等體相特征；載樣臺到視窗上表面距離 11mm，便于高倍物鏡聚焦。
靈活集成
外形尺寸145mm×78mm×38mm，凈重 1.2kg，可直接安裝于標準顯微鏡載物臺；無需外置水冷，高溫下可依靠自身散熱穩定工作。
樣品適應性廣
載樣臺為8mm 圓形陶瓷凹槽，樣品高度 5mm，支持粉末、薄片、小塊體、熔融態等樣品形態；可選配真空或惰性氣氛腔室。
操作便捷，穩定可靠
配套智能化控溫軟件，支持遠程控制、程序段編輯、數據導出；無機械振動、無制冷劑，適合高精度光學環境；可選配水循環系統用于長時間極限高溫運行。
主要技術指標
設備型號：Huace 1500-XY
加熱方式：電阻加熱（高溫阻絲）
溫度范圍：RT～1500℃
溫度穩定性：±0.1℃
溫度分辨率：0.1℃
升溫速率：1~150℃/min（可調）
載樣臺材質：陶瓷
載樣臺規格：8mm 圓形凹槽
樣品高度：5mm
光路：透射
樣品臺中透光孔尺寸：Φ5mm
上視窗尺寸：Φ3mm
下視窗尺寸：Φ10mm
載樣臺到視窗上表面距離：11mm
腔室環境：大氣（標準）；可選真空或惰性氣氛
外形尺寸：145mm×78mm×38mm
凈重：1.2kg
選配：真空系統、定制水循環系統、定制軟件控溫系統等
